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常見的鍍膜工藝有哪些?
發(fā)布時間:2022-10-09 瀏覽:  次

  常見的鍍膜工藝:1、PVD(物理氣象沉淀)工藝:2、CVD(化學法鍍膜)

  1、PVD(物理氣象沉淀)工藝:是指在真空條件下,采用物理方法,將材料源表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子,并通過低壓氣體(或等離子體)過程,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。物理氣相沉積的主要方法有,真空蒸鍍、濺射鍍膜、電弧等離子體鍍、離子鍍膜,及分子束外延等。

  發(fā)展到目前,物理氣相沉積技術不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、半導體、聚合物膜等,其中顯示面板用的銦錫靶ITO主要采用真空鍍膜。

  2、CVD(化學法鍍膜工藝)技術:該技術是在高溫下依靠化學反應、把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣。

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